Jumamosi, Aprili 02 2011 18: 56

Athari za Kiafya na Miundo ya Magonjwa

Kiwango hiki kipengele
(0 kura)

Kama tasnia inayoibuka, utengenezaji wa semiconductor mara nyingi umezingatiwa kama kielelezo cha mahali pa kazi cha teknolojia ya juu. Kwa sababu ya mahitaji magumu ya utengenezaji yanayohusiana na kutoa tabaka nyingi za sakiti za kielektroniki zenye mwelekeo wa mikroni kwenye kaki za silicon, mazingira ya chumba safi yamekuwa sawa na mahali pa kazi kwa tasnia hii. Kwa kuwa baadhi ya gesi za hidridi zinazotumiwa katika utengenezaji wa semiconductor (kwa mfano, arsine, fosfini) zilitambuliwa mapema kama kemikali zenye sumu kali, teknolojia ya kudhibiti uvutaji hewa umekuwa sehemu muhimu ya utengenezaji wa kaki. Wafanyakazi wa semiconductor wametengwa zaidi na mchakato wa uzalishaji kwa kuvaa nguo maalum zinazofunika mwili mzima (kwa mfano, gauni), vifuniko vya nywele, vifuniko vya viatu na, mara kwa mara, vinyago vya uso (au hata vifaa vya kupumua vinavyotolewa na hewa). Kutoka kwa mtazamo wa vitendo, wasiwasi wa mwajiri kwa usafi wa bidhaa umesababisha, pia, katika ulinzi wa kufichua kwa mfanyakazi.

Mbali na mavazi ya kinga ya kibinafsi, mifumo ya kisasa zaidi ya uingizaji hewa na ufuatiliaji wa hewa ya kemikali/gesi hutumiwa katika tasnia nzima ya semiconductor kugundua uvujaji wa mivuke yenye sumu ya kutengenezea kemikali, asidi na gesi za hidridi katika sehemu kwa kila milioni (ppm) au chini ya hapo. Ingawa, kwa mtazamo wa kihistoria, tasnia imepata uhamishaji wa wafanyikazi wa mara kwa mara kutoka kwa vyumba vya kutengeneza kaki, kulingana na uvujaji halisi au unaoshukiwa wa gesi au vimumunyisho, vipindi kama hivyo vya uokoaji vimekuwa matukio ya kawaida kwa sababu ya masomo yaliyopatikana katika muundo wa mifumo ya uingizaji hewa, gesi yenye sumu. /ushughulikiaji wa kemikali na mifumo ya kisasa zaidi ya ufuatiliaji wa hewa na sampuli za hewa zinazoendelea. Hata hivyo, ongezeko la thamani ya fedha ya kaki za silicon za kibinafsi (pamoja na kipenyo cha kaki kinachoongezeka), ambacho kinaweza kuwa na idadi kubwa ya vichakataji vidogo au vifaa vya kumbukumbu, vinaweza kuweka mkazo wa kiakili kwa wafanyikazi ambao lazima wadhibiti wenyewe vyombo vya kaki hizi wakati wa michakato ya utengenezaji. Ushahidi wa mkazo huo ulipatikana wakati wa utafiti wa wafanyakazi wa semiconductor (Hammond et al. 1995; Hines et al. 1995; McCurdy et al. 1995).

Sekta ya semiconductor ilianza nchini Merika, ambayo ina idadi kubwa zaidi ya wafanyikazi wa tasnia ya semiconductor (takriban 225,000 mnamo 1994) ya nchi yoyote. (BLS 1995). Hata hivyo, kupata makadirio halali ya ajira ya kimataifa kwa sekta hii ni vigumu kwa sababu ya kujumuishwa kwa wafanyakazi wa semiconductor na wafanyakazi wa "kutengeneza vifaa vya umeme/kielektroniki" katika takwimu za mataifa mengi. Kwa sababu ya udhibiti mkali wa uhandisi unaohitajika kwa utengenezaji wa vifaa vya semicondukta, kuna uwezekano mkubwa kwamba sehemu za kazi za semicondukta (yaani, vyumba vya kusafisha) zinaweza kulinganishwa, katika mambo mengi, duniani kote. Uelewa huu, pamoja na mahitaji ya serikali ya Marekani ya kurekodi majeraha na magonjwa yote muhimu yanayohusiana na kazi miongoni mwa wafanyakazi wa Marekani, hufanya uzoefu wa jeraha la kazi na ugonjwa wa wafanyakazi wa semiconductor wa Marekani kuwa suala muhimu sana katika kiwango cha kitaifa na kimataifa. Kwa kifupi, kwa wakati huu kuna vyanzo vichache vya kimataifa vya taarifa na data muhimu kuhusu usalama na uzoefu wa afya wa mfanyikazi wa semiconductor, isipokuwa vile vya Utafiti wa Kila Mwaka wa Majeruhi na Magonjwa ya Kazini na Ofisi ya Marekani ya Takwimu za Kazi (BLS).

Nchini Marekani, ambayo imekusanya data ya majeraha ya kazi na magonjwa kwenye viwanda vyote tangu 1972, mzunguko wa majeraha na magonjwa yanayohusiana na kazi kati ya wafanyakazi wa semiconductor imekuwa kati ya chini zaidi ya viwanda vyote vya utengenezaji. Walakini, wasiwasi umetolewa kuwa athari za kiafya zaidi zinaweza kuwa kati ya wafanyikazi wa semiconductor (LaDou 1986), ingawa athari kama hizo hazijaandikwa.

Kongamano kadhaa zimefanyika kuhusu tathmini ya teknolojia ya udhibiti katika tasnia ya semiconductor, pamoja na karatasi kadhaa za kongamano zinazohusu masuala ya mazingira na usalama wa wafanyikazi na afya (ACGIH 1989, 1993).

Idadi ndogo ya data ya jeraha la kazi na ugonjwa kwa jumuiya ya kimataifa ya utengenezaji wa semiconductor ilitolewa kupitia uchunguzi maalum uliofanywa mwaka wa 1995, ukihusisha kesi zilizoripotiwa kwa miaka ya 1993 na 1994. Data hizi za utafiti zimefupishwa hapa chini.

Majeraha ya Kazi na Ugonjwa kati ya Wafanyakazi wa Semiconductor

Kuhusiana na data ya kimataifa ya takwimu inayohusishwa na majeraha ya kazi na magonjwa kati ya wafanyakazi wa semiconductor, data pekee inayoweza kulinganishwa inaonekana kuwa ile inayotokana na uchunguzi wa shughuli za utengenezaji wa semiconductor za kitaifa zilizofanywa mwaka wa 1995 (Lassiter 1996). Data iliyokusanywa katika uchunguzi huu ilihusisha shughuli za kimataifa za watengenezaji wa semiconductor wenye makao yake nchini Marekani kwa miaka ya 1993-94. Baadhi ya data kutoka kwa uchunguzi huo zilijumuisha shughuli zingine isipokuwa utengenezaji wa semiconductor (kwa mfano, utengenezaji wa kompyuta na diski), ingawa kampuni zote zilizoshiriki zilihusika katika tasnia ya vifaa vya elektroniki. Matokeo ya utafiti huu yamewasilishwa katika kielelezo cha 1 na cha 2, ambacho kinajumuisha data kutoka eneo la Asia-Pasifiki, Ulaya, Amerika Kusini na Marekani. Kila kesi ilihusisha jeraha au ugonjwa unaohusiana na kazi ambao ulihitaji matibabu au hasara ya kazi au kizuizi. Viwango vyote vya matukio katika takwimu vimehesabiwa kama idadi ya kesi (au siku za kazi zilizopotea) kwa saa 200,000 za mfanyakazi kwa mwaka. Ikiwa jumla ya saa za mfanyakazi hazikupatikana, wastani wa makadirio ya ajira ya kila mwaka yalitumiwa. Kiwango cha 200,000 cha saa za mfanyikazi ni sawa na wafanyikazi 100 wanaolingana wa muda wote kwa mwaka (ikichukua saa 2,000 za kazi kwa kila mfanyakazi kwa mwaka).

Kielelezo 1. Usambazaji wa viwango vya matukio ya majeraha na magonjwa ya kazini na sekta ya ulimwengu, 1993 na 1994.

MIC060F6

Mchoro 2. Usambazaji wa viwango vya matukio ya Majeruhi na magonjwa kwa siku za mapumziko ya kazi kulingana na sekta ya ulimwengu 1993 na 1994.

MIC060F7

Kielelezo cha 1 kinaonyesha viwango vya majeraha ya kazi na matukio ya magonjwa kwa maeneo mbalimbali ya dunia katika uchunguzi wa 1993-94. Viwango vya nchi binafsi havijajumuishwa ili kuhakikisha usiri wa kampuni zinazoshiriki ambazo zilikuwa vyanzo pekee vya data kwa nchi fulani. Kwa hivyo, kwa nchi fulani katika utafiti, data iliripotiwa kwa kituo kimoja tu. Katika matukio kadhaa, makampuni yaliunganisha data zote za kimataifa katika takwimu moja. Data hizi za mwisho zimeorodheshwa katika takwimu 1 na takwimu 2 kama "Pamoja".

Matukio ya kila mwaka ya majeraha na magonjwa ya kazini kati ya wafanyikazi wote katika uchunguzi wa kimataifa yalikuwa kesi 3.3 kwa kila wafanyikazi 100 (saa za wafanyikazi 200,000) mnamo 1993 na 2.7 mnamo 1994. Kulikuwa na kesi 12,615 zilizoripotiwa kwa 1993 na 12,368 kwa 1994. kesi (12,130 mwaka 1993) zilitokana na makampuni ya Marekani. Kesi hizi zilihusishwa na takriban wafanyikazi 387,000 mnamo 1993 na 458,000 mnamo 1994.

Mchoro wa 2 unaonyesha viwango vya matukio kwa kesi zilizopotea za siku ya kazi zinazojumuisha siku za mbali na kazi. Viwango vya matukio ya 1993 na 1994 vilitokana na takriban kesi 4,000 za siku za kazi zilizopotea kwa kila miaka 2 katika uchunguzi wa kimataifa. Viwango vya kimataifa/kikanda vya viwango vya matukio vya takwimu hii vilikuwa finyu zaidi kati ya vilivyopimwa. Matukio ya kesi zilizopotea siku ya kazi inaweza kuwakilisha takwimu za kimataifa zinazoweza kulinganishwa zaidi kuhusiana na usalama wa mfanyakazi na uzoefu wa afya. Kiwango cha matukio ya siku za kazi zilizopotea (siku mbali na kazi) kilikuwa takriban siku 15.4 kutoka kazini kwa kila wafanyikazi 100 kwa kila moja ya miaka 2.

Data pekee ya kina inayojulikana kuwepo kuhusu sifa za kesi za majeraha na magonjwa ya mfanyakazi wa semiconductor ni zile zinazokusanywa kila mwaka nchini Marekani na BLS, zinazohusisha kesi zilizopoteza siku za kazi. Kesi zilizojadiliwa hapa zilitambuliwa na BLS katika uchunguzi wao wa kila mwaka wa 1993. Data iliyopatikana kutokana na kesi hizi inaonekana katika takwimu 3, takwimu 4, takwimu 5 na takwimu 6. Kila takwimu inalinganisha uzoefu wa kesi ya siku ya kazi iliyopotea kwa sekta binafsi, viwanda vyote na utengenezaji wa semiconductor.

Kielelezo 3. Matukio ya kulinganisha ya kesi za siku za kazi zilizopotea1 kwa aina ya tukio au mfiduo, 1993

MIC060F2

Kielelezo 4. Matukio ya kulinganisha ya kesi za siku za kazi zilizopotea1 kwa chanzo cha majeraha au ugonjwa, 1993.

MIC060F3

Kielelezo 5. Matukio ya kulinganisha ya kesi za siku za kazi zilizopotea1 kwa asili ya jeraha au ugonjwa, 1993.

MIC060F4

Kielelezo 6. Matukio ya kulinganisha ya kesi zilizopotea za siku ya kazi na sehemu ya mwili iliyoathiriwa, 1993.

MIC060F5

Kielelezo cha 3 kinalinganisha hali ya siku ya kazi iliyopotea ya wafanyakazi wa semiconductor wa Marekani mwaka 1993 na sekta ya kibinafsi na utengenezaji wote kwa heshima na aina ya tukio au kufichua. Viwango vya matukio kwa aina nyingi katika takwimu hii vilikuwa chini sana kwa wafanyikazi wa tasnia ya semiconductor kuliko kwa sekta ya kibinafsi au viwanda vyote. Kesi zinazohusisha matumizi ya kupita kiasi kati ya wafanyikazi wa semiconductor zilikuwa chini ya nusu ya kiwango cha wafanyikazi wote katika sekta ya utengenezaji. Kategoria ya mfiduo hatari (kimsingi inayohusishwa na mfiduo wa dutu za kemikali) ilikuwa sawa kati ya vikundi vyote vitatu.

Mgawanyiko linganishi wa kesi zilizopotea za siku ya kazi kulingana na chanzo cha jeraha au ugonjwa umeonyeshwa katika mchoro 4. Viwango vya matukio ya siku ya kazi vilivyopotea kwa wafanyikazi wa semiconductor vilikuwa chini ya vile vya sekta binafsi na utengenezaji wote katika kategoria zote za chanzo isipokuwa kesi zinazohusiana na mfiduo wa kemikali. vitu.

Kielelezo cha 5 kinalinganisha viwango vya matukio ya siku ya kazi vilivyopotea vinavyohusishwa na asili ya jeraha au ugonjwa kati ya vikundi vitatu. Viwango vya wafanyakazi wa semiconductor vilikuwa chini ya nusu ya viwango vya sekta binafsi na viwanda vyote mwaka 1993. Matukio ya kuchomwa kwa kemikali yalikuwa juu kidogo kwa wafanyakazi wa semiconductor, lakini yalikuwa chini sana kwa makundi yote matatu ya kulinganisha. Matukio ya ugonjwa wa handaki ya carpal (CTS) kati ya wafanyikazi wa semiconductor wa Amerika ilikuwa chini ya nusu ya kiwango cha utengenezaji wote.

Katika mchoro wa 6, usambazaji na matukio ya kesi zinazohusisha siku za mbali na kazi zinaonyeshwa kulingana na sehemu ya mwili iliyoathirika. Ingawa matukio ya kesi zinazohusisha mifumo ya mwili yalikuwa ya chini kwa vikundi vyote vya kulinganisha, kiwango cha wafanyikazi wa semiconductor kiliinuliwa kidogo. Sehemu zingine zote za mwili zilizoathiriwa zilikuwa chini sana kwa wafanyikazi wa semiconductor kuliko kwa vikundi vingine viwili vya kulinganisha.

Masomo ya Epidemiological ya Wafanyakazi wa Semiconductor

Wasiwasi wa uwezekano wa madhara ya afya ya uzazi unaohusishwa na ajira katika semiconductor ulijitokeza mwaka wa 1983 wakati mfanyakazi wa kike katika kituo cha semiconductor cha Shirika la Vifaa vya Dijiti huko Hudson, Massachusetts, alidokeza kuwa aliamini kuwa mimba nyingi zimeharibika miongoni mwa wafanyakazi katika vyumba vya usafi vya kituo hicho. Madai haya, pamoja na kukosekana kwa data ya ndani katika kituo hicho, yalisababisha uchunguzi wa magonjwa ya Chuo Kikuu cha Massachusetts cha Shule ya Afya ya Umma huko Amherst (UMAss). Utafiti ulianza Mei 1984 na kukamilika mwaka 1985 (Pastides et al. 1988).

Hatari kubwa ya kuharibika kwa mimba ilizingatiwa katika eneo la fotolithografia na eneo la usambaaji ikilinganishwa na wafanyikazi ambao hawajawekwa wazi katika maeneo mengine ya kituo. Hatari ya jamaa ya 1.75 ilionekana kuwa si muhimu kitakwimu (p <0.05), ingawa hatari ya 2.18 iliyozingatiwa kati ya wafanyikazi katika maeneo ya usambazaji ilikuwa muhimu. Uchapishaji wa utafiti wa UMass ulisababisha wasiwasi katika tasnia nzima ya semiconductor kwamba utafiti mkubwa ulithibitishwa ili kudhibitisha matokeo yaliyozingatiwa na kuamua kiwango chao na sababu inayowezekana.

Chama cha Semiconductor Semiconductor (SIA) cha Marekani kilifadhili utafiti mkubwa zaidi uliofanywa na Chuo Kikuu cha California huko Davis (UC Davis) kuanzia mwaka wa 1989. Utafiti wa UC Davis uliundwa ili kupima dhana kwamba utengenezaji wa semiconductor ulihusishwa na ongezeko la hatari. ya kuharibika kwa mimba kwa wafanyakazi wa kike wa kutengeneza kaki. Idadi ya watu wa utafiti ilichaguliwa kutoka kati ya makampuni 14 ambayo yaliwakilisha maeneo 42 ya uzalishaji katika majimbo 17. Idadi kubwa zaidi ya tovuti (zinazowakilisha karibu nusu ya wafanyakazi katika utafiti) ilikuwa California.

Utafiti wa UC Davis ulijumuisha vipengele vitatu tofauti: sehemu ya sehemu-mtambuka (McCurdy et al. 1995; Pocekay et al. 1995); sehemu ya kikundi cha kihistoria (Schenker et al. 1995); na kipengele kinachotarajiwa (Eskenazi et al. 1995). Kiini cha kila moja ya tafiti hizi kilikuwa tathmini ya mfiduo (Hines et al. 1995; Hammond et al. 1995). Sehemu ya tathmini ya udhihirisho iliwaweka wafanyikazi kwa kikundi cha mfiduo wa jamaa (yaani, mfiduo wa juu, mfiduo wa chini na kadhalika).

Katika sehemu ya kihistoria ya utafiti, ilibainishwa kuwa hatari ya jamaa ya wafanyikazi wa uwongo, ikilinganishwa na wafanyikazi wasio wa uundaji, ilikuwa 1.45 (yaani, 45% ya hatari ya ziada ya kuharibika kwa mimba). Kikundi cha hatari zaidi kilichotambuliwa katika kipengele cha kihistoria cha utafiti kilikuwa wanawake ambao walifanya kazi katika upigaji picha au shughuli za etching. Wanawake wanaofanya shughuli za kuchota walipata hatari ya jamaa ya 2.15 (RR=2.15). Kwa kuongeza, uhusiano wa majibu ya kipimo ulionekana kati ya wanawake ambao walifanya kazi na mpiga picha au msanidi yeyote kwa heshima na hatari ya kuharibika kwa mimba. Data hizi ziliunga mkono muunganisho wa kipimo cha etha za ethylene glikoli (EGE) lakini si etha za propylene glycol (PGE).

Ingawa ongezeko la hatari ya kuharibika kwa mimba ilizingatiwa miongoni mwa wafanyakazi wa utengenezaji wa kaki za kike katika sehemu inayotarajiwa ya utafiti wa UC Davis, matokeo hayakuwa muhimu kitakwimu (p chini ya 0.05). Idadi ndogo ya mimba ilipunguza kwa kiasi kikubwa nguvu ya sehemu inayotarajiwa ya utafiti. Uchambuzi kwa kuathiriwa na wakala wa kemikali ulionyesha hatari iliyoongezeka kwa wale wanawake ambao walifanya kazi na etha ya ethylene glikoli monoethyl, lakini ilitokana na mimba 3 tu. Ugunduzi mmoja muhimu ulikuwa uungaji mkono wa jumla, na sio kupingana, matokeo ya sehemu ya kihistoria.

Sehemu ya sehemu ya utafiti ilibainisha ongezeko la dalili za kupumua kwa juu hasa katika tanuru ya kueneza na makundi ya filamu nyembamba ya wafanyakazi. Ugunduzi wa kuvutia ulikuwa athari za ulinzi zinazoonekana za vidhibiti mbalimbali vya uhandisi vinavyohusiana na ergonomics (kwa mfano, sehemu za miguu na matumizi ya kiti kinachoweza kurekebishwa ili kupunguza majeraha ya mgongo).

Vipimo vya hewa vilivyofanywa katika vitambaa vya kaki vilipata mifichuo mingi ya viyeyusho vilikuwa chini ya 1% ya vikomo vinavyokubalika vya kukaribia aliyeambukizwa (PEL) vilivyoanzishwa na serikali ya Marekani.

Utafiti tofauti wa magonjwa (Correa et al. 1996) ulifanywa na Chuo Kikuu cha Johns Hopkins (JHU), ukihusisha kikundi cha wafanyakazi wa semiconductor wa IBM Corporation mwaka wa 1989. Kiwango cha jumla cha kuharibika kwa mimba kilichozingatiwa katika utafiti wa JHU uliohusisha wafanyakazi wa chumba cha usafi wa kike kilikuwa 16.6%. Hatari ya kuharibika kwa mimba kati ya wafanyikazi wa kike wa chumba cha usafi walio na uwezekano wa juu zaidi wa etha za ethylene glikoli ilikuwa 2.8 (95% CI = 1.4-5.6).

Majadiliano ya Mafunzo ya Epidemiological ya Uzazi yanayohusisha Wafanyakazi wa Semiconductor

Masomo ya epidemiological yalikuwa ya ajabu katika upeo na kufanana kwa matokeo. Masomo haya yote yalitoa matokeo sawa. Kila utafiti uliandika hatari ya ziada ya utoaji mimba wa pekee (kuharibika kwa mimba) kwa wafanyakazi wa utengenezaji wa kaki wa semiconductor wa kike. Masomo mawili kati ya (JHU na UC Davis) yanaweza kuashiria uhusiano wa sababu na kufichuliwa kwa etha za glikoli zenye ethylene. Utafiti wa UMass uligundua kuwa kikundi cha picha (wale walio na etha ya glikoli) walikuwa na hatari ndogo kuliko kikundi cha uenezaji, ambacho hakikuwa na kumbukumbu ya mfiduo wa etha ya glikoli. Ingawa tafiti hizi zinaonyesha ongezeko la hatari ya utoaji mimba wa moja kwa moja kati ya wafanyakazi wa kutengeneza kaki, sababu ya hatari hiyo ya ziada haijulikani wazi. Utafiti wa JHU ulishindwa kuandika jukumu muhimu la etha za glikoli, na utafiti wa UC Davis uliunganisha etha za glikoli kwa kiasi kidogo tu (kupitia uundaji wa udhihirisho na mazoea ya kazi yaliyoripotiwa) na athari za uzazi. Kidogo kama ufuatiliaji wowote ulifanyika katika utafiti wowote ili kubaini kukaribiana na etha za glikoli. Kufuatia kukamilika kwa tafiti hizi tasnia ya semiconductor ilianza kubadili kutoka etha za glikoli za mfululizo wa ethilini hadi mbadala kama vile etha za ethyl lactate na etha za glikoli za mfululizo wa propylene.

Hitimisho

Kulingana na data bora zaidi inayopatikana kuhusu matukio ya kila mwaka ya majeraha na magonjwa yanayohusiana na kazi, wafanyikazi wa semiconductor wako katika hatari ndogo kuliko wafanyikazi katika sekta zingine za utengenezaji au katika sekta ya kibinafsi (pamoja na tasnia nyingi zisizo za utengenezaji). Kwa misingi ya kimataifa, inaonekana kwamba data ya takwimu za majeraha ya kazini na magonjwa yanayohusiana na matukio ya siku ya kazi yaliyopotea inaweza kuwa kiashirio cha kutegemewa cha usalama na afya ya wafanyakazi wa semiconductor duniani kote. Sekta hii imefadhili masomo kadhaa huru ya epidemiological katika jaribio la kupata majibu ya maswali ya matokeo ya afya ya uzazi kuhusiana na ajira katika sekta hiyo. Ingawa uhusiano wa uhakika kati ya mimba zinazoharibika na kuathiriwa na etha za glikoli zenye ethylene haukuanzishwa, tasnia imeanza kutumia vimumunyisho mbadala vya kupiga picha.

 

Back

Kusoma 5027 mara Ilibadilishwa mwisho Jumatatu, 05 Septemba 2011 16:32

" KANUSHO: ILO haiwajibikii maudhui yanayowasilishwa kwenye tovuti hii ya tovuti ambayo yanawasilishwa kwa lugha yoyote isipokuwa Kiingereza, ambayo ndiyo lugha inayotumika katika utayarishaji wa awali na ukaguzi wa wenza wa maudhui asili. Takwimu fulani hazijasasishwa tangu wakati huo. utayarishaji wa toleo la 4 la Encyclopaedia (1998).

Yaliyomo

Marejeleo ya Microelectronics na Semiconductors

Mkutano wa Marekani wa Wataalamu wa Usafi wa Viwanda wa Kiserikali (ACGIH). 1989. Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor. Chelsea, MI: Lewis Publishers.

-. 1993. Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor II. Cincinnati, OH: ACGIH.

-. 1994. Nyaraka za Thamani ya Kikomo cha Kizingiti, Bidhaa za Kutengana kwa Joto la Rosin Core Solder, kama Resin Acids-Colophony. Cincinnati, OH: ACGIH.

Taasisi ya Kitaifa ya Viwango ya Marekani (ANSI). 1986. Kiwango cha Usalama kwa Roboti za Viwanda na Mifumo ya Roboti ya Viwanda. ANSI/RIA R15.06-1986. New York: ANSI.

ASKMAR. 1990. Sekta ya Kompyuta: Mwenendo Muhimu kwa miaka ya 1990. Saratoga, CA: Machapisho ya Mwenendo wa Kielektroniki.

Asom, MT, J Mosovsky, RE Leibenguth, JL Zilko, na G Cadet. 1991. Uzalishaji wa arsine wa muda mfupi wakati wa ufunguzi wa vyumba vya MBE vya chanzo imara. J Cryst Growth 112(2-3):597–599.

Muungano wa Viwanda vya Elektroniki, Mawasiliano ya Simu na Vifaa vya Biashara (EEA). 1991. Miongozo ya Matumizi ya Colophony (Rosin) Solder Fluxes katika Sekta ya Elektroniki. London: Leichester House EEA.

Baldwin, DG. 1985. Mfiduo wa kemikali kutoka kwa miale ya alumini ya plasma ya tetrakloridi ya kaboni. Muhtasari Uliopanuliwa, Electrochem Soc 85(2):449–450.

Baldwin, DG na JH Stewart. 1989. Hatari za kemikali na mionzi katika utengenezaji wa semiconductor. Teknolojia ya Hali Imara 32(8):131–135.

Baldwin, DG na ME Williams. 1996. Usafi wa viwanda. Katika Kitabu cha Usalama cha Semiconductor, kilichohaririwa na JD Bolmen. Park Ridge, NJ: Noyes.

Baldwin, DG, BW King, na LP Scarpace. 1988. Vipandikizi vya ioni: Usalama wa kemikali na mionzi. Teknolojia ya Hali Imara 31(1):99–105.

Baldwin, DG, JR Rubin, na MR Horowitz. 1993. Maonyesho ya usafi wa viwanda katika utengenezaji wa semiconductor. Jarida la SSA 7(1):19–21.

Bauer, S, I Wolff, N Werner, na P Hoffman. 1992a. Hatari za kiafya katika tasnia ya semiconductor, hakiki. Pol J Occup Med 5(4):299–314.

Bauer, S, N Werner, I Wolff, B Damme, B Oemus, na P Hoffman. 1992b. Uchunguzi wa sumu katika tasnia ya semiconductor: II. Utafiti juu ya sumu ya kuvuta pumzi kidogo na sumu ya genotoxic ya bidhaa za taka za gesi kutoka kwa mchakato wa kuunganisha plasma ya alumini. Toxicol Ind Health 8(6):431–444.

Bliss Industries. 1996. Solder Dross Particulate Capture System Literature. Fremont, CA: Bliss Industries.

Ofisi ya Takwimu za Kazi (BLS). 1993. Utafiti wa Mwaka wa Majeraha na Magonjwa ya Kazini. Washington, DC: BLS, Idara ya Kazi ya Marekani.

-. 1995. Ajira na Mishahara Wastani wa Mwaka, 1994. Bulletin. 2467. Washington, DC: BLS, Idara ya Kazi ya Marekani.

Clark, RH. 1985. Handbook of Printed Circuit Manufacturing. New York: Kampuni ya Van Nostrand Reinhold.

Cohen, R. 1986. Mionzi ya radiofrequency na microwave katika sekta ya microelectronics. Katika Hali ya Mapitio ya Kisanaa—Tiba ya Kazini: The Microelectronics Industry, iliyohaririwa na J LaDou. Philadelphia, PA: Hanley & Belfus, Inc.

Coombs, CF. 1988. Kitabu cha Mwongozo cha Mizunguko Chapa, toleo la 3. New York: McGraw-Hill Book Company.

Maudhui, RM. 1989. Mbinu za udhibiti wa chuma na metalloids katika vifaa vya III-V epitaxy ya awamu ya mvuke. Katika Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor, iliyohaririwa na Mkutano wa Marekani wa Wataalamu wa Usafi wa Viwanda wa Kiserikali. Chelsea, MI: Lewis Publishers.

Correa A, RH Gray, R Cohen, N Rothman, F Shah, H Seacat, na M Corn. 1996. Etha za ethylene glikoli na hatari za uavyaji mimba papo hapo na kutozaa. Am J Epidemiol 143(7):707–717.

Crawford, WW, D Green, WR Knolle, HM Marcos, JA Mosovsky, RC Petersen, PA Testagrossa, na GH Zeman. 1993. Mfiduo wa shamba la sumaku katika vyumba vya kusafisha vya semiconductor. Katika Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor II. Cincinnati, OH: ACGIH.

Escher, G, J Weathers, na B Labonville. 1993. Mazingatio ya muundo wa usalama katika upigaji picha wa laser ya kina-UV. Katika Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor II. Cincinnati, OH: Mkutano wa Marekani wa Wataalamu wa Usafi wa Viwanda wa Kiserikali.

Eskenazi B, EB Gold, B Lasley, SJ Samuels, SK Hammond, S Wright, MO Razor, CJ Hines, na MB Schenker. 1995. Ufuatiliaji unaotarajiwa wa upotezaji wa mapema wa fetasi na uavyaji mimba wa moja kwa moja kati ya wafanyikazi wa kike wa semiconductor. Am J Indust Med 28(6):833–846.

Flipp, N, H Hunsaker, na P Herring. 1992. Uchunguzi wa uzalishaji wa hidridi wakati wa matengenezo ya vifaa vya kupandikiza ioni. Iliwasilishwa katika Mkutano wa Usafi wa Viwanda wa Marekani wa Juni 1992, Boston—Karatasi 379 (haijachapishwa).

Goh, CL na SK Ng. 1987. Dermatitis ya mawasiliano ya hewa hadi kolofoni katika flux ya soldering. Wasiliana na Ugonjwa wa Ngozi 17(2):89–93.

Hammond SK, CJ Hines MF Hallock, SR Woskie, S Abdollahzadeh, CR Iden, E Anson, F Ramsey, na MB Schenker. 1995. Mkakati wa tathmini ya mfiduo wa viwango katika Utafiti wa Afya wa Semiconductor. Am J Indust Med 28(6):661–680.

Harrison, RJ. 1986. Gallium arsenide. Ukaguzi wa Hali ya Kisanaa—Tiba ya Kazini: The Microelectronics Industry, iliyohaririwa na J LaDou Philadelphia, PA: Hanley & Belfus, Inc.

Hathaway, GL, NH Proctor, JP Hughes, na ML Fischman. 1991. Hatari za Kemikali Mahali pa Kazi, toleo la 3. New York: Van Nostrand Reinhold.

Hausen, BM, K Krohn, na E Budianto. 1990. Mzio wa mawasiliano kutokana na koloni (VII). Masomo ya kuhamasisha na bidhaa za oksidi za asidi abietic na asidi zinazohusiana. Wasiliana na Dermat 23(5):352–358.

Tume ya Afya na Usalama. 1992. Kanuni ya Mazoezi Iliyoidhinishwa-Udhibiti wa Vihisishi vya Kupumua. London: Mtendaji wa Afya na Usalama.

Helb, GK, RE Caffrey, ET Eckroth, QT Jarrett, CL Fraust, na JA Fulton. 1983. Usindikaji wa Plasma: Baadhi ya masuala ya usalama, afya na uhandisi. Teknolojia ya Hali Imara 24(8):185–194.

Hines, CJ, S Selvin, SJ Samuels, SK Hammond, SR Woskie, MF Hallock, na MB Schenker. 1995. Uchambuzi wa nguzo za kihierarkia kwa tathmini ya mfiduo wa wafanyikazi katika Utafiti wa Afya wa Semiconductor. Am J Indust Med 28(6):713–722.

Horowitz, Bw. 1992. Masuala ya mionzi ya Nonionizing katika kituo cha R na D cha semiconductor. Iliwasilishwa katika Mkutano wa Usafi wa Viwanda wa Marekani wa Juni 1992, Boston—Karatasi 122 (haijachapishwa).

Jones, JH. 1988. Tathmini ya mfiduo na udhibiti wa utengenezaji wa semiconductor. AIP Conf. Proc. (Photovoltaic Safety) 166:44–53.

LaDou, J (mh.). 1986. Mapitio ya Hali ya Sanaa-Tiba ya Kazini: Sekta ya Microelectronics. Philadelphia, PA: Hanley and Belfus, Inc.

Lassiter, DV. 1996. Ufuatiliaji wa jeraha la kazi na ugonjwa kwa misingi ya kimataifa. Mijadala ya Kongamano la Tatu la Kimataifa la ESH, Monterey, CA.

Leach-Marshall, JM. 1991. Uchambuzi wa mionzi iliyogunduliwa kutoka kwa vipengele vya mchakato wazi kutoka kwa mfumo wa kupima uvujaji mzuri wa krypton-85. Jarida la SSA 5(2):48–60.

Chama cha Viwanda vya Kuongoza. 1990. Usalama katika Kuuza, Miongozo ya Afya kwa Solders na Soldering. New York: Lead Industries Association, Inc.

Lenihan, KL, JK Sheehy, na JH Jones. 1989. Tathmini ya mfiduo katika usindikaji wa arsenidi ya gallium: Uchunguzi kifani. Katika Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor, iliyohaririwa na Mkutano wa Marekani wa Wataalamu wa Usafi wa Viwanda wa Kiserikali. Chelsea, MI: Lewis Publishers.

Maletskos, CJ na PR Hanley. 1983. Mazingatio ya ulinzi wa mionzi ya mifumo ya upandikizaji wa ioni. IEEE Trans kwenye Sayansi ya Nyuklia NS-30:1592–1596.

McCarthy, CM. 1985. Mfiduo wa Mfanyakazi wakati wa Matengenezo ya Vipandikizi vya Ion katika Sekta ya Semiconductor. Tasnifu ya Uzamili, Chuo Kikuu cha Utah, Salt Lake City, UT, 1984. Imefupishwa katika Muhtasari Uliopanuliwa, Electrochem Soc 85(2):448.

McCurdy SA, C Pocekay, KS Hammond, SR Woskie, SJ Samuels, na MB Schenker. 1995. Uchunguzi wa sehemu mbalimbali wa matokeo ya kupumua na afya ya jumla kati ya wafanyakazi wa sekta ya semiconductor. Am J Indust Med 28(6):847–860.

McIntyre, AJ na BJ Sherin. 1989. Gallium arsenide: hatari, tathmini, na udhibiti. Teknolojia ya Hali Imara 32(9):119–126.

Shirika la Teknolojia ya Mikroelectronics na Kompyuta (MCC). 1994. Ramani ya Mazingira ya Sekta ya Elektroniki. Austin, TX: MCC.

-. 1996. Ramani ya Mazingira ya Sekta ya Elektroniki. Austin, TX: MCC.

Mosovsky, JA, D Rainer, T Moses na WE Quinn. 1992. Uzalishaji wa hidridi wa muda mfupi wakati wa usindikaji wa III-semiconductor. Appl Occup Environ Hyg 7(6):375–384.

Mueller, MR na RF Kunesh. 1989. Athari za usalama na kiafya za miale ya kemikali kavu. Katika Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor, iliyohaririwa na Mkutano wa Marekani wa Wataalamu wa Usafi wa Viwanda wa Kiserikali. Chelsea, MI: Lewis Publishers.

O'Mara, WC. 1993. Maonyesho ya Jopo la Flat la Kioevu la Kioevu. New York: Van Nostrand Reinhold.

PACE Inc. 1994. Kijitabu cha Uchimbaji wa Fume. Laurel, MD: PACE Inc.

Pastides, H, EJ Calabrese, DW Hosmer, Jr, na DR Harris. 1988. Utoaji mimba wa pekee na dalili za ugonjwa wa jumla kati ya wazalishaji wa semiconductor. J Kazi Med 30:543–551.

Pocekay D, SA McCurdy, SJ Samuels, na MB Schenker. 1995. Utafiti wa sehemu ya msalaba wa dalili za musculoskeletal na sababu za hatari katika wafanyakazi wa semiconductor. Am J Indust Med 28(6):861–871.

Rainer, D, WE Quinn, JA Mosovsky, na MT Asom. 1993. III-V kizazi cha muda mfupi cha hidridi, Teknolojia ya Hali Imara 36 (6): 35–40.

Rhoades, BJ, DG Sands, na VD Mattera. 1989. Mifumo ya udhibiti wa usalama na mazingira inayotumika katika vitendanishi vya uwekaji wa mvuke wa kemikali (CVD) katika AT&T-Microelectronics-Reading. Appl Ind Hyg 4(5):105–109.

Rogers, JW. 1994. Usalama wa mionzi katika semiconductors. Iliwasilishwa katika Mkutano wa Aprili 1994 wa Chama cha Usalama wa Semiconductor, Scottsdale, AZ (haijachapishwa).

Rooney, FP na J Leavey. 1989. Mazingatio ya usalama na afya ya chanzo cha x-ray lithografia. Katika Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor, iliyohaririwa na Mkutano wa Marekani wa Wataalamu wa Usafi wa Viwanda wa Kiserikali. Chelsea, MI: Lewis Publishers.

Rosenthal, FS na S Abdollahzadeh. 1991. Tathmini ya maeneo ya chini sana ya mzunguko (ELF) ya umeme na magnetic katika vyumba vya utengenezaji wa microelectronics. Appl Occup Environ Hyg 6(9):777–784.

Roychowdhury, M. 1991. Usalama, usafi wa mazingira viwandani, na masuala ya mazingira kwa mifumo ya kite ya MOCVD. Teknolojia ya Hali Imara 34(1):36–38.

Scarpace, L, M Williams, D Baldwin, J Stewart, na D Lassiter. 1989. Matokeo ya sampuli za usafi wa viwanda katika shughuli za utengenezaji wa semiconductor. Katika Tathmini ya Hatari na Teknolojia ya Kudhibiti katika Utengenezaji wa Semiconductor, iliyohaririwa na Mkutano wa Marekani wa Wataalamu wa Usafi wa Viwanda wa Kiserikali. Chelsea, MI: Lewis Publishers.

Schenker MB, EB Gold, JJ Beaumont, B Eskenazi, SK Hammond, BL Lasley, SA McCurdy, SJ Samuels, CL Saiki, na SH Swan. 1995. Ushirikiano wa utoaji mimba wa pekee na madhara mengine ya uzazi na kazi katika sekta ya semiconductor. Am J Indust Med 28(6):639–659.

Schenker, M, J Beaumont, B Eskenazi, E Gold, K Hammond, B Lasley, S McCurdy, S Samuels, na S Swan. 1992. Ripoti ya Mwisho kwa Chama cha Semiconductor Industry Association-Epidemiologic Study of Reproductive Reproductive and Other Health miongoni mwa Wafanyakazi Walioajiriwa katika Utengenezaji wa Semiconductors. Davis, CA: Chuo Kikuu cha California.

Schmidt, R, H Scheufler, S Bauer, L Wolff, M Pelzing, na R Herzschuh. 1995. Uchunguzi wa sumu katika tasnia ya semiconductor: III: Uchunguzi juu ya sumu kabla ya kuzaa inayosababishwa na bidhaa za taka kutoka kwa michakato ya kuchota plasma ya alumini. Toxicol Ind Health 11(1):49–61.

SEMATECH. 1995. Hati ya Uhamisho wa Usalama wa Silane, 96013067 A-ENG. Austin, TX: SEMATECH.

-. 1996. Mwongozo wa Kutafsiri kwa SEMI S2-93 na SEMI S8-95. Austin, TX: SEMATECH.

Chama cha Semiconductor Semiconductor (SIA). 1995. Data ya Utabiri wa Mauzo ya Semiconductor Duniani. San Jose, CA: SIA.

Sheehy, JW na JH Jones. 1993. Tathmini ya mfiduo na udhibiti wa arseniki katika uzalishaji wa arsenidi ya gallium. Am Ind Hyg Assoc J 54(2):61–69.

Msikivu, DJ. 1995. Kuchagua Laminates Kwa Kutumia Vigezo vya "Fitness for Use", Surface Mount Technology (SMT). Libertyville, IL: Kikundi cha Uchapishaji cha IHS.

Wade, R, M Williams, T Mitchell, J Wong, na B Tusé. 1981. Utafiti wa sekta ya semiconductor. San Francisco, CA: Idara ya California ya Mahusiano ya Viwanda, Kitengo cha Usalama na Afya Kazini.